近日，在麗水舉行的第七屆國際先進光刻技術研討會上，來自國內外相關領域的專家學者、知名企業家齊聚一堂，共話行業發展趨勢、前沿成果及創新靈感，為麗水半導體產業迸發新的活力帶來全新機遇。

本次研討會由中國集成電路創新聯盟、中國光學學會主辦，中國科學院微電子研究所和麗水經濟技術開發區管理委員會承辦，浙江省國資運營公司下屬浙江富浙資本管理有限公司等協辦。

當下，集成電路產業已經成為備受關注的戰略性產業，在政策和資本的推動下蓬勃發展。基于這個背景，國際先進光刻技術研討會應運而生，為國內外半導體業界人員提供了一個重要的交流平臺。會上，相關知名公司、機構、高校的嘉賓，圍繞材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等領域主題，深入交流分享各自的研究成果，共同探討未來行業發展趨勢及面臨的挑戰。

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